SiO2 Нимгэн хальс Дулааны исэл Цахиурын ялтас 4 инч 6 инч 8 инч 12 инч

Исэлдсэн цахиур хавтан үйлдвэрлэх үндсэн үйл явц нь ихэвчлэн дараахь алхмуудыг агуулдаг: нэг талст цахиур ургах, зүсэх, өнгөлөх, цэвэрлэх, исэлдүүлэх.

Нэг талст цахиурын өсөлт: Нэгдүгээрт, нэг талст цахиурыг өндөр температурт Czochralski арга эсвэл Float-zone арга зэрэг аргаар ургуулдаг.Энэ арга нь өндөр цэвэршилттэй, торны бүрэн бүтэн байдал бүхий цахиурын нэг талстыг бэлтгэх боломжийг олгодог.

Шүүмжлэх: Ургасан монокристалл цахиур нь ихэвчлэн цилиндр хэлбэртэй байдаг бөгөөд нимгэн талст ялтсын субстрат болгон ашиглахын тулд зүсэх шаардлагатай.Зүсэлтийг ихэвчлэн алмаазан зүсэгчээр хийдэг.

Өнгөлгөө: Зүссэн хавтанцарын гадаргуу тэгш бус байж болох тул гөлгөр гадаргуутай болгохын тулд химийн механик өнгөлгөө шаардлагатай.

Цэвэрлэгээ: Өнгөлсөн вафель нь бохирдол, тоосыг арилгахын тулд цэвэрлэнэ.

Исэлдүүлэх: Эцэст нь цахиур ялтсуудыг өндөр температурт исэлдүүлэх зууханд хийж, цахиурын давхар ислийн хамгаалалтын давхарга үүсгэж, цахилгаан шинж чанар, механик бат бөх чанарыг сайжруулж, нэгдсэн хэлхээнд тусгаарлах давхарга болдог.

Исэлдсэн цахиур хавтангийн гол хэрэглээ нь нэгдсэн хэлхээ үйлдвэрлэх, нарны зай үйлдвэрлэх, бусад электрон төхөөрөмж үйлдвэрлэх явдал юм.Цахиурын исэл хавтан нь маш сайн механик шинж чанар, хэмжээст болон химийн тогтвортой байдал, өндөр температур, өндөр даралтанд ажиллах чадвар, түүнчлэн сайн тусгаарлагч, оптик шинж чанартай тул хагас дамжуулагч материалын салбарт өргөн хэрэглэгддэг.

Түүний давуу тал нь бүрэн болор бүтэц, цэвэр химийн найрлага, нарийн хэмжээс, сайн механик шинж чанар гэх мэт. Эдгээр шинж чанарууд нь цахиурын исэл хавтангуудыг өндөр хүчин чадалтай интеграл хэлхээ болон бусад микроэлектроник төхөөрөмжүүдийг үйлдвэрлэхэд тохиромжтой болгодог.