Цахиурын давхар исэл SiO2 зузаан хавтанцар өнгөлсөн, үндсэн ба туршилтын зэрэг

Цахиурын давхар ислийн зузаан SiO2 вафель өнгөлсөн, үндсэн болон туршилтын зэрэглэлийн онцлох зураг

Богино тайлбар:

Дулааны исэлдэлт нь цахиурын давхар исэл (SiO2) давхарга үүсгэхийн тулд исэлдүүлэгч бодис, дулааныг хослуулан цахиурын ялтсыг ил гаргасны үр дүн юм.Манай компани нь үйлчлүүлэгчдэд зориулсан өөр өөр параметр бүхий цахиурын давхар ислийн хайрсыг тохируулах боломжтой, маш сайн чанарын; оксидын давхаргын зузаан, нягтрал, жигд байдал, эсэргүүцлийн талст чиглэлийг үндэсний стандартын дагуу хэрэгжүүлдэг.

Бидэн рүү имэйл илгээнэ үү

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

Өрөөний хайрцгийн танилцуулга

Бүтээгдэхүүн	Дулааны исэл (Si+SiO2) хавтан
Үйлдвэрлэлийн арга	LPCVD
Гадаргуу өнгөлөх	SSP/DSP
Диаметр	2 инч / 3 инч / 4 инч / 5 инч/ 6 инч
Төрөл	P төрөл / N төрөл
Исэлдэлтийн давхаргын зузаан	100нм ~1000нм
Баримтлал	<100> <111>
Цахилгаан эсэргүүцэл	0.001-25000(Ом•см)
Өргөдөл	Синхротрон цацрагийн дээж зөөгч, субстрат болгон PVD/CVD бүрэх, магнетрон цацах өсөлтийн дээж, XRD, SEM,Атомын хүч, хэт улаан туяаны спектроскопи, флюресцент спектроскопи болон бусад шинжилгээний туршилтын субстрат, молекулын цацрагийн эпитаксиаль өсөлтийн субстрат, талст хагас дамжуулагчийн рентген шинжилгээ

Цахиурын исэл хавтан нь атмосферийн даралтат зуухны хоолойн төхөөрөмжтэй дулааны исэлдэлтийн процессыг ашиглан өндөр температурт (800 ° C ~ 1150 ° C) хүчилтөрөгч эсвэл усны уураар цахиур ялтсуудын гадаргуу дээр ургуулсан цахиурын давхар ислийн хальс юм. Процессын зузаан нь 50 нанометрээс 2 микрон хүртэл, процессын температур нь Цельсийн 1100 градус хүртэл, өсөлтийн арга нь "нойтон хүчилтөрөгч", "хуурай хүчилтөрөгч" гэсэн хоёр төрөлд хуваагддаг. Дулааны исэл нь "ургасан" оксидын давхарга бөгөөд CVD-ийн хуримтлагдсан ислийн давхаргуудаас илүү жигд, илүү сайн нягтралтай, диэлектрикийн хүч чадал өндөртэй тул дээд зэргийн чанарыг бий болгодог.

Хуурай хүчилтөрөгчийн исэлдэлт

Цахиур нь хүчилтөрөгчтэй урвалд ордог бөгөөд ислийн давхарга нь субстратын давхарга руу байнга хөдөлдөг. Хуурай исэлдэлтийг 850-аас 1200 ° C-ийн температурт, бага өсөлтийн хурдтай хийх шаардлагатай бөгөөд MOS тусгаарлагдсан хаалганы өсөлтөд ашиглаж болно. Өндөр чанартай, хэт нимгэн цахиурын ислийн давхарга шаардлагатай үед хуурай исэлдэлтийг нойтон исэлдэлтээс илүүд үздэг. Хуурай исэлдэлтийн хүчин чадал: 15нм~300нм.

2. Нойтон исэлдэлт

Энэ арга нь усны уурыг ашиглан өндөр температурын нөхцөлд зуухны хоолой руу орох замаар ислийн давхарга үүсгэдэг. Нойтон хүчилтөрөгчийн исэлдэлтийн нягтрал нь хуурай хүчилтөрөгчийн исэлдэлтээс арай муу боловч хуурай хүчилтөрөгчийн исэлдэлттэй харьцуулахад түүний давуу тал нь өсөлтийн хурд өндөртэй, 500 нм-ээс дээш хальс ургахад тохиромжтой байдаг. Нойтон исэлдэлтийн хүчин чадал: 500нм~2мкм.

AEMD-ийн атмосферийн даралтын исэлдэлтийн зуухны хоолой нь Чехийн хэвтээ зуухны хоолой бөгөөд процессын өндөр тогтвортой байдал, сайн хальсан жигд байдал, тоосонцорыг дээд зэргээр хянадаг. Цахиурын ислийн зуухны хоолой нь нэг хоолойд 50 хүртэлх ширхэгтэй вафель боловсруулах боломжтой бөгөөд дотор болон хавтан хоорондын маш сайн жигд байна.